电子半导体行业水质标准：
　　我公司电子级工业超纯水设备出水水质完全符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

　　电子工业对水质的要求：
　　微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

　　应用场合：
　　☆　半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路；
　　☆　超纯材料和超纯化学试剂；
　　☆　实验室和中试车间；
　　☆　汽车、家电表面抛光处理；
　　☆　光电产品；
　　☆　其他高科技精微产品；

                                   最新工艺流程：

　　典型电子级超纯水制备工艺：    
     ☆预处理----反渗透----水箱----阳床----阴床----混合床----纯水箱----纯水泵----紫外线杀菌器----精制混床----微孔膜过滤器----用水对象
     ☆预处理----一级反渗透----pH调节装置----中间水箱----二级反渗透----纯水箱----纯水泵----紫外线杀菌器----微孔膜过滤器----用水对象
     ☆预处理----二级反渗透----中间水箱----水泵----EDI超纯水设备----纯水箱----纯水泵----紫外线杀菌器----微孔膜过滤器----用水对象        

　　新工艺
     ☆预处理----二级反渗透----中间水箱----水泵----EDI超纯水设备----纯水箱----纯水泵----紫外线杀菌器----抛光混床----TOC分解器----微孔膜过滤器----用水对象