超纯水制取设备的工艺流程

电子半导体行业超纯水制取设备的工艺流程:

  晨兴水处理公司技术人员针对电子光学半导体行业选用以下工艺，采用的是二级反渗透+EDI装置+核能抛光混床作为系统的主脱盐设备；系统运行费用低，易于实现自动化，反渗透水处理系统具有很好的经济性。该工艺的特点先进、成熟、出水水质稳定、系统运行稳定，反渗透+EDI脱盐装置

原水箱→原水泵→全自动多介质过滤器→全自动活性炭过滤器→还原剂加药装置→全自动软化过滤器→保安过滤器→一级高压泵→一级反渗透系统→一级RO水箱→PH调节装置→二级高压泵→二级反渗透系统→二级RO纯水箱→EDI增压泵→UV杀菌器→脱气膜→精密过滤器→EDI装置→EDI纯水箱→纯水泵→抛光混床→0.22u膜过滤器→生产线用水点

电子半导体行业超纯水制取设备的工艺介绍

1.预处理：主要是去除水中的有机物、悬浮物、胶体、硬度和余氯等，以确保RO能正常工作。处理工艺采用多介质过滤，活性炭吸附，树脂交换钙镁离子及相关药剂，以减少RO工作时产生垢物和藻类生长及微生物污染及氧化剂

预处理系统包括：原水箱、原水泵、加药系统、多介质过滤、活性碳过滤、软化器、保安过滤器。

反渗透装置：反渗透装置是该项目预脱盐的心脏部分，经反渗透处理的水，能去除绝大部分无机盐，微生物等。设计的合理与否直接关系到项目的投资费用、整个系统运行的经济效益、使用寿命、操作的可靠简便性。反渗透膜均采用先进的低压复合膜，单根脱盐率达99.8%。当系统设计温度为20℃时，考虑到原水水质变化以及膜的使用寿命等因素，本系统采用8英寸的复合RO膜，安装在不锈钢压力容器内。回收率：50%～75%，脱盐率：98%。RO系统回收率在50%～75%以上，系统脱盐率不小于98%。在本项目中考虑到设备的节能、运行压力、膜的透过滤、膜的脱盐率、出水的含盐量等因素，我公司推荐采用美国海德能、陶氏、东丽、GE、时代沃顿汇通等品牌的反渗透膜。

EDI装置：EDI电除盐系统是结合了电渗析与离子交换的优点克服了二者存在的缺点的新技术，edi超纯水处理工艺稳定的工作状态，有效的延长了EDI的使用寿命，并降低用户的运行成本。其工作原理是三个过程，一是在直流电场作用下，水中电解质通过离子交换膜发生选择性迁移;二是阴阳离子交换树脂对水中电解质进行着离子交换，并构成“离子通道”;三是离子交换树脂界面水发生极化所产生的H+和OH-对交换树脂进行着电化学再生。

抛光混床：抛光混床又称一次性混床，一般情况用在高纯水制取的工艺末端，用来更进一步提高产水水质。抛光混床中的抛光树脂是不能再生重复使用的，所谓抛光的意思就是树脂的表面处理情况。

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